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佳能/尼康/阿西马克的三个制造商占全球半导体光刻机市场的90％以上

日本光学设备制造巨头佳能（Canon）计划通过提高光刻机的生产效率来抢占市场。根据计划，佳能将在今年3月推出一种新型光刻机“ FPA-3030i5a”。
自7年来，这是7年来的首次。该新产品使旧型号的生产效率提高了近17％。
公开信息显示，以日本的佳能，尼康（Nikon）和荷兰（ASML）为首的三家制造商占据了全球半导体光刻机市场的90％以上。曾经有一段时间，尼康和佳能在全球光刻机市场上处于领导地位，但是自从荷兰巨头ASML主导EUV技术以来，这两家巨头的研发工作也停滞了。
到目前为止，在EUV光刻机的生产中，世界上只有ASML可以承担这项重要任务。但是，考虑到它目前在全球半导体设备市场中具有某些优势，主要的日本公司不愿“移交”产品。
到ASML的光刻机市场。根据国际半导体工业协会（SEMI）先前发布的数据，2019年日本生产的半导体生产设备占世界的31.3％。
根据《日经新闻》的先前报告，在2020财年（截至2021年3月底），日本著名的半导体组件制造商东京电子公司在研发方面的支出总计为1,350亿日元（85亿元人民币）为了增加检测光源和其他设备的强度，以尽快增加EUV光刻机相关设备的生产能力。佳能的“大动作”这次也不例外。
据报道，佳能希望通过推进多种半导体产品战略，在当前全球物联网技术飞速发展的同时，将赢得更多的海外订单，从而在全球光刻机市场赢得更多蛋糕。值得一提的是，佳能和尼康等日本公司将中国市场视为振兴“业绩”的重要希望。
半导体行业。我们必须知道，我国目前芯片发展有限的原因之一是美国打算阻碍海外巨头与中国公司之间的合作。
特别是中芯国际从ASML订购的EUV光刻机尚未能够出口到中国。为了打破美国的束缚，中国公司也在努力寻找转折点。
2020年10月中旬，日本媒体爆料说，许多中资公司已经计划投资尼康和佳能这两家日本巨头，共同推动EUV以外的新型光刻机的研发。根据日本媒体的分析，尽管ASML目前是世界上最大的EUV光刻机，但如果要获得使用极紫外以外的技术的高端光刻机，则两家公司分别是日本的Nikon和佳能。
也有制造能力。
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